磁控离子溅射仪/离子溅射仪/小型磁控离子溅射仪型号:WZX-JSY-CK库号：M415781 查看hh
小型磁控离子溅射仪主要用于SEM制样样品镀导电膜（如金膜）或材料镀膜，仪器性能稳定，操作简单|方便。采用磁控冷态溅射，基本不升温，ZUI大限度保护样品。 主要特点: ² 显示操作面为30°斜面，充分考虑操作的便捷和视觉体验，方便观察操作； ² 真空泵连接管路为金属波纹管，美观耐用； ² 微调阀调节灵敏准确，带有刻度标识； ² 真空泵抽速快，噪音低，适合实验室使用； ² 控制电路为控制板，工作稳定； ² 显示控制操作部分布局合理，位于同侧，使用方便； ² 磁控冷态溅射，基本不升温，ZUI大限度保护样品；
技术参数: 1.样品室空间：直径120mm×高110mm 2. Pt靶为标配，靶材尺寸：φ50mm×0.1mm 3.独立真空控制电路设计，实现真空度和溅射电流，AN全互锁，可调ZUI大电流40mA； 4.侵入式磁控低温离子源，可快速换靶材，环绕暗区护罩； 5.使用独立JI时控制器，JI时，可调设置范围:1-500秒，连续可调 6.自动真空泄气功能，自动排气，可通过数字定时器进行控制 7.JIN口真空泵，抽速8.5m3/h，噪声不大于48dB,可置于抗震台上，全金属集成耦合系统 8.微型真空气阀：高精度微量流量阀，精度±0.1Pa 
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