磁控离子溅射仪库号：M415910 磁控离子溅射仪 型号:WZX-ARIES-700库号：M415910 查看hh 技术参数 适用场景 适用于CHAO高分辨场发射扫描电镜(FE-SEM)及FIB样品表面导电镀层制备 真空泵组 无油隔膜泵+涡轮分子泵组合 抽速配置 隔膜泵≥0.7m7h，分子泵60 L/s JI限真空<5x10Pa 工作气压0.5-8 Pa 气体控制系统 MFC气体质量流量控制器(>2SCCM) 溅射JI时 <999s 真空测量 高真空复合真空计 腔室尺寸 φ170 x 135 mm 旋转样品台 直径80 mm.转速60RPM 靶基距离55-70mm 连续可调 溅射靶材支持中30mm靶材 溅射电源 恒功率溅射电源，ZUI大输出电流100mA 操作方式 触摸屏程序化控制 设备尺寸 430 mm (长)x 390 mm (宽) x 510 mm (高) 工作电源220V AC 磁控离子溅射仪 型号:WZX-ARIES-700库号：M415910 查看hh 技术参数 适用场景 适用于CHAO高分辨场发射扫描电镜(FE-SEM)及FIB样品表面导电镀层制备 真空泵组 无油隔膜泵+涡轮分子泵组合 抽速配置 隔膜泵≥0.7m7h，分子泵60 L/s JI限真空<5x10Pa 工作气压0.5-8 Pa 气体控制系统 MFC气体质量流量控制器(>2SCCM) 溅射JI时 <999s 真空测量 高真空复合真空计 腔室尺寸 φ170 x 135 mm 旋转样品台 直径80 mm.转速60RPM 靶基距离55-70mm 连续可调 溅射靶材支持中30mm靶材 溅射电源 恒功率溅射电源，ZUI大输出电流100mA 操作方式 触摸屏程序化控制 设备尺寸 430 mm (长)x 390 mm (宽) x 510 mm (高) 工作电源220V AC
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