磁控溅射仪库号：M413671 磁控溅射仪 型号:ZX/SD-900M库号：M413671 查看hh midwest-group 原理： 在磁控溅射中，由于运动电子在磁场中受到洛仑兹力，它们的运动轨迹会发生弯曲甚至产生螺旋运动，其运动路径变长，因而增加了与工作气体分子碰撞的次数，使等离子体密度zeng大，从而磁控溅射速率得到提高，可以在较低的溅射电压和气压下工作，降低薄膜污染的倾向；另一方面也提高了入射到衬底表面的原子的能|量，因而可以 改善薄膜的质量。同时，经过多次碰撞而丧失能|量的电子到达阳极时，已变成低能电子，从而不会使基片过热。 参数： 主机规格：300mm×360mm×380mm（W×D×H） 靶（上部电极）：金：50mm×0.1mm（D×H） 靶材：Au（标配） 样品室：玻璃腔体160mm×120mm（D×H） 靶材尺寸：Ф50mm 真空度：≤ 4X10-2 mbar 电流：≤100mA 定时器：数码JI时 0-999S 镀膜面积：50mm 微型真空气阀：可连接φ3mm软管 可通入气体：多种 电压：-1600 DCV 机械泵：标准配置2L/S（国产VRD-8） 冷却方式：冷水机（可根据实验具体要求自备） 速率：0--60nm/min 用途： 1、适用于电镜实验室的扫描电子显微镜（SEM）观察前对样品的喷金、喷铂。 2、非导体材料实验电极制作（喷金、喷铂。喷银等） 3、其他可以满足条件的镀膜实验。 特点： 1、成膜速率高。 2、基片温度低，可以对温度敏感的材料进行镀膜。 3、可实现大面积镀膜。 4、可调节溅射电流和真空室压强以控制镀膜的速率和颗粒的大小，颗粒大小约4-20nm。 5、SETPLASMA手动启动按钮可预先设置好压强和溅射电流避免对膜造成不必要的SUN伤。 6、真空保护可避免真空过低造成设备短路。 7、同时可以通过换不同的靶材（金、铂、铱、银、铜等），以达到细颗粒的涂层。 8、通过通入不同的惰性气体以达到纯净的涂层。中西集团
磁控溅射仪库号：M413671 
|
